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ビジネスモデル
独自技術「多能性®中間膜」で半導体製造の性能向上とコスト削減を両立
株式会社Gaianixxは、東京大学発の独自技術「多能性®中間膜」を核に、半導体製造における「格子不整合」という長年の課題を解決するテクノロジーベンチャーです。安価なシリコン基板上に高品質な化合物半導体膜を形成する技術により、デバイスの高性能化と大幅なコスト削減を両立させます。ビジネスモデルは、この技術を適用した中間膜やウェーハをデバイスメーカーに販売すること、および技術ライセンスの提供を収益の柱としています。
ターゲット顧客
次世代パワー半導体（SiC, GaN）、高周波デバイス、MEMS、LED製品などの開発・製造を手掛ける半導体デバイスメーカーの技術開発担当者や経営層。特に「デバイスの性能向上」と「製造コストの削減」という二律背反の課題に直面している企業が対象です。
提供価値
独自技術「多能性®中間膜」により、安価なシリコン基板上に高品質な化合物半導体（GaNなど）の結晶成長を可能にすることで、「性能向上」と「コスト削減」のジレンマを解消します。これにより、顧客は高価な特殊基板を使用する必要がなくなり、製造コストを大幅に削減できると同時に、結晶欠陥の低減による性能・信頼性・歩留まりの向上を実現できます。
収益モデル
サプライヤーから原料や装置を購入し、自社の付加価値を載せた「多能性®中間膜」や、その上にエピタキシャル成長させたウェーハをデバイスメーカーに販売するモデルです。また、技術のライセンス提供も収益モデルに含まれる可能性があります。
