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CATALYST 特集

グラフェン量産・合成技術を開発する注目スタートアップ

優れた導電性や強度を持ち、次世代デバイスの基幹素材として期待されるグラフェン。本特集では、独自の合成プロセスの開発や量産化技術の確立に挑み、グラフェンの社会実装と実用化を推進する注目の研究開発型スタートアップを紹介します。

掲載 2最終更新: 2026年6月11日

優れた導電性や強度を持つナノ炭素材料であるグラフェンは、次世代の産業を支える革新素材として大きな期待を集めてきた。しかし、その社会実装を本格化させるためには、高品質なグラフェンをいかに低コストで安定的に量産するかという製造プロセスの確立が世界的な課題となっている。従来の合成手法では、品質の維持と製造コストの抑制がトレードオフの関係にあり、さらに合成後の基板からの転写工程における技術的な難しさも実用化への大きな障壁となっていた。

本特集では、こうしたグラフェンの量産化と実用化における課題に対し、独自の革新的なアプローチで挑む最先端スタートアップ2社を紹介する。無基板・無触媒による多層グラフェンの直接合成技術や、プラズマCVDを用いた単層グラフェンの量産および高度な自動転写技術など、従来の限界を打破する独自の製造プロセスに焦点を当て、その技術的特徴と可能性を紐解く。

1

株式会社インキュベーション・アライアンス

独自プロセスによるものづくり技術の研鑽と、アライアンスによる新規事業の創出により我が国の産業振興に貢献すること

世界初の無基板・無触媒プロセス「InALA法(高速CVD法)」を強みとする。この独自技術により、従来は困難であった多層グラフェンの直接合成を可能にし、高品質化と低コストでの大量生産を両立させた。高純度かつ高結晶性を持つユニークな形態の「グラフェンフラワー」を製造でき、これを原料とした高性能な応用部材の開発まで手掛けている点が特徴である。

株式会社インキュベーション・アライアンスの詳細データを見る
2

株式会社エアメンブレン

グラフェンの夢を実現します

産総研の研究成果を基盤とする、高品質な単層グラフェンの量産と転写技術に強みを持つ。プラズマCVD法により品質と生産効率を飛躍的に高めた量産技術に加え、原子層レベルのグラフェンをシワや破れなしに様々な基板へ移し替える独自の転写技術を開発。この転写工程の自動化も実現しており、多様な基材へのスムーズな適用を可能にしている。

株式会社エアメンブレンの詳細データを見る

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