CATALYST 特集
低温プラズマ技術の注目スタートアップ特集
低温プラズマ技術は、医療、農業、半導体製造など幅広い分野での応用が期待される革新的な技術です。本特集では、この低温プラズマやラジカル制御技術を活用し、産業プロセスの効率化や次世代デバイス開発に挑む注目のスタートアップ企業を紹介します。
低温プラズマ技術は、熱に弱い素材への処理や、精密な分子制御が求められる最先端の産業分野において、革新的なソリューションとして注目を集めています。従来の高温プロセスや化学的手法では、対象物への熱ダメージや環境負荷、製造コストの高さが課題となっていました。これに対し、低温プラズマ技術は、比較的低い温度環境を維持しながら活性の高いラジカルを生成できるため、次世代材料の合成や半導体製造プロセスの効率化において極めて重要な役割を果たしています。
本特集では、この低温プラズマ技術をコアに、独自のイノベーションを牽引するスタートアップ2社を紹介します。大学発の高度な研究成果を基に高品質なナノ材料の直接合成と精密なプロセス監視を実現する企業や、独自の装置設計により圧倒的な高密度ラジカルを低温で生成し、次世代半導体製造のプロセスに変革をもたらす企業が登場します。それぞれの技術的アプローチと、産業応用における独自の優位性にご注目ください。
株式会社nu-rei
目に見えない力で、世界を変える
名古屋大学発の低温プラズマ技術を基盤に、高性能材料「ナノグラフェン」の合成と、製造プロセスを制御する「ラジカル密度モニタリング装置」を展開しています。化学的な手法を用いる競合とは異なり、プラズマにより原料から直接高品質なナノグラフェンを合成することで、低コストと高性能を両立。さらに、製造プロセスの精密な監視技術を併せ持つことで、他社にない独自の優位性を確立しています。
株式会社nu-reiの詳細データを見る株式会社アビット・テクノロジーズ
半導体プロセスに革新をもたらすことを目指す研究開発型ベンチャー企業
独自の装置設計による高密度プラズマ技術を強みとしています。マイクロ波を直接チャンバーに導入する設計により電力を効率化し、熱ダメージのない300〜400℃の低温で、従来比1000倍以上の高密度水素ラジカルを生成可能です。これにより、従来は高温処理が必要だったSiCパワー半導体の層間絶縁膜形成プロセスを低温化し、半導体の性能と信頼性の向上に貢献しています。
株式会社アビット・テクノロジーズの詳細データを見る関連特集
SiCパワー半導体関連の注目スタートアップ特集
脱炭素社会の実現に向けて需要が急増するSiC（炭化ケイ素）パワー半導体分野の注目スタートアップを紹介します。高品質なSiCウェハの製造技術や、デバイスの性能向上に寄与する革新的な製造プロセス技術など、次世代パワー半導体の普及を支える最先端テクノロジーを持つ企業をまとめています。
3社
におい識別・嗅覚センサー技術を展開する注目スタートアップ
においや香りを数値化・可視化する嗅覚センサー技術は、食品、医療、環境など幅広い分野での応用が期待されています。本特集では、独自のセンサー開発やAI解析技術を用いて、においの識別や言語化、デジタル化に取り組む注目のスタートアップ企業を紹介します。
2社
耐放射線IoT半導体分野で注目されるスタートアップ
宇宙空間や極限環境での利用が期待される耐放射線IoT半導体技術。本特集では、低消費電力かつ高い放射線耐性を備えた革新的な半導体デバイスの開発に取り組み、IoT端末の可能性を広げる注目のスタートアップ企業を紹介します。
1社
低温排熱回収技術に挑む注目スタートアップ特集
産業プロセスなどで発生する、これまで有効活用されてこなかった低温排熱を回収・再利用する技術が注目されています。本特集では、300℃以下の低温排熱から効率的に電気エネルギーなどを回収する革新的な技術を持ったスタートアップ企業を紹介します。
1社